간단하게 설명하면, ASML의 EUV 장비는 반도체 웨이퍼에 nm 폭으로 회로의 사진을 찍어 주는 장치입니다. 회로의 사진 대로 기판의 물질을 파내고, 다시 채우는 건 또 다른 일이죠. nm 폭의 선이 손상되지 않고 전선으로서 제대로 작동을 하게 하는 것은 또 별개의 일이구요. 반도체 공정은 수십 가지 공정으로 이루어져 있는데, 넓은 선폭에서는 아무 문제가 안 되었던 일들이 수 nm 공정이 되면 문제를 일으키기 시작하죠. 그걸 다 해결해야 수 nm 회로를 만들 수 있습니다.